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[ZDNet] 정부, 반도체 초순수 생산기술 국산화 추진…日 의존도 줄인다

  • 작성일자

    2021-07-29 00:00
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정부, 반도체 초순수 생산기술 국산화 추진…日 의존도 줄인다

환경부, 2025년까지 고순도 공업용수 국산화 R&D 사업 착수

산업일반입력 :2021/07/14 12:00    수정: 2021/07/14 12:46 | 박영민 기자

정부가 반도체 제조과정에서 광범위하게 사용되는 '초순수(初純水·Ultra Pure Water)'의 생산기술 국산화에 나섰다.

환경부는 한국수자원공사·한국환경산업기술원과 '고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발(R&D)' 사업에 착수한다고 14일 밝혔다.

이번 기술개발 사업은 지난 2019년 정부가 일본의 수출규제에 대응하기 위해 추진한 조치다. 국산기술을 활용해 반도체 공정 등에서 사용되는 고순도 공업용수를 생산·공급하는 사업이다.

초순수는 수백개의 반도체 생산 단위공정 중에 나오는 부산물과 오염물을 세정할 때 쓰이는 필수 공업용수다. 초미세회로(nano meter, 10-9m)로 구성된 반도체를 세척해야 해 총 유기탄소량(TOC)의 농도가 10억분의 1(ppb) 이하일 정도로 고순도를 유지해야 한다.

우리나라는 반도체 사용 용수의 약 50%를 차지하는 초순수 공업용수의 생산·공급을 일본 등 해외업체에 의존해왔다. 공정설계, 초순수 배관, 수처리 약품 등을 일본에 의존하고 있어 수출규제 등 외부환경에도 취약하다.

환경부는 올해부터 고순도 공업용수 생산을 위한 핵심부품인 자외선 산화장치(UV)와 용존산소 제거용 탈기막 국산화 기술개발에 착수했다.

수자원공사는 2025년까지 하루 2천400톤의 초순수를 생산하는 실증플랜트를 반도체 공급업체에 설치·운영할 계획이다. 초순수 생산 시설이 완료되면 반도체 설계·시공·운영 단계별로 쓰이는 초순수 공정의 최대 60%를 국산화할 것으로 기대된다.

공공기관과 관련 업계는 2025년까지 ▲초 저농도 유기물 제거용 자외선 산화장치 ▲초 저농도 용존산소 제거용 탈기막 ▲고순도 공업용수 설계-시공-운영 통합 ▲고순도 공업용수 공정·수질 성능평가 ▲반도체 폐수를 이용한 고순도 공업용 원수 확보 등 5개의 세부과제별 기술개발을 추진한다.

[원문보기] https://zdnet.co.kr/view/?no=20210714112259